這熱點沖的停不下來了！
結合軟件操作，更能實現利潤的更大化，如上海新陽12.4日在底部時發出B點，之后在啟動時兩次入選階段新高股票池，且12月龍騰四海指標上穿紅線后，多數時間維持在紅線上方，保持著主升浪的信號，至今仍未發出S點，漲幅達到驚人的181%！
另外趨勢股的神器，趨勢頂底這個指標在強力新材上又得到了驗證！
上海新陽K線圖
強力新材K線圖
1 光刻膠及市場規模
光刻膠是指通過紫外光、準分子激光、電子束、離子束、X 射線等光源的照射或輻射,其溶解度發生變化的耐蝕刻薄膜材料。光刻膠具有光化學敏感性，其經過曝光、顯影、刻蝕等工藝，可以將設計好的微細圖形從掩膜版轉移到待加工基片。2018年全球光刻膠及輔助材料銷售額分別為17.3億美元和22.3億美元，占據半導體原材料總額的5%和7%。
2 光刻膠國產化率不高，國產替代潛力巨大
根據行業用途，光刻膠分為半導體光刻膠，PCB光刻膠和LCD光刻膠。半導體光刻膠和 PCB光刻膠以及 LCD 光刻膠的構成基本類似，由光刻膠樹脂和光引發劑組成。但半導體光刻膠在性能和價格方面遠高于其他兩類，在LCD光刻膠和PCB領域我國國產化率并不高，半導體光刻膠作為光刻膠中最高端的組成部分，我國本土企業目前僅占有較低的市場份額。
3 發展空間巨大
目前半導體光刻膠市場超過 90% 市場份額被日本住友、信越化學、JSR 、TOK 、美國陶氏等公司 占據，國內半導體光刻膠技術與國外先進技術差距較大。國際先進技術水平已經可以量產第五代極紫外光刻機用光刻膠，而我國在這一領域尚處在實驗室階段，12寸晶圓制造所用ArF光刻膠尚處在研發階段，國內僅可小批量供應8英寸晶圓所用KrF光刻膠，通過中芯國際驗證。因此，在國家大基金二期扶持產業發展時，半導體材料領域的光刻膠有望獲得重點關注。目前我國半導體光刻膠生產和研發企業僅有五家，分別為蘇州瑞紅（晶瑞股份子公司）、北京科華、南大光電、容大感光、強力新材、上海新陽。
4 投資建議（來源：巨豐投顧）
南大光電（300346）：
南大光電持有北京科華微電子31.39%的股權，并直接投資6.55億元（其中國撥資金1.93億元、地方配套資金1.97億元），擬用3年時間建成年產 25 噸 193nm（ArF 干式和浸沒式）光刻膠項目。另外，其研發團隊陣容目前也是國內屈指可數的一線團隊。
晶瑞股份（300655）：
2018年年報中，公司的主營業務收入主要來自超凈高純試劑、鋰電池粘合劑，其次為光刻膠、功能性材料等產品的銷售收入，2018年光刻膠貢獻收入84.2億元，占比僅為10.4%。光刻膠產品由公司的子公司蘇州瑞紅生產，蘇州瑞紅規模生產光刻膠20多年，擁有達到國際先進水平的光刻膠生產線，是國內最早規模量產光刻膠的企業之一。蘇州瑞紅承擔并完成了國家02重大專項“i線光刻膠產品開發及產業化”項目，i線光刻膠已向中芯國際、揚杰科技、福順微電子等客戶供貨，KrF（248nm深紫外）光刻膠完成中試，產品分辨率達到了0.25~0.13m的技術要求，建成了中試示范線。
強力新材（300429）：
公司從事半導體KrF光刻膠用光酸、光酸中間體以及聚合物用單體的生產及銷售，光酸中間體已商業化量產，光酸及單體已向主要KrF光刻膠企業認證銷售。最新的公司互動表示，目前公司主要產品為光刻膠專用化學品，分為光刻膠用光引發劑（包括光增感劑、光致產酸劑等）和光刻膠樹脂兩大系列。公司的產品按照應用領域分類，主要有印制電路板（PCB）光刻膠專用化學品（光引發劑和樹脂）、液晶顯示器（LCD）光刻膠光引發劑、半導體光刻膠光引發劑及其他用途光引發劑（非光刻膠領域使用）等。
容大感光（300576）：
公司1.8億收購高仕電研，標的生產的PCB油墨產品主要是感光阻焊白油；公司LCD、TP用光刻膠，LED用正性光刻膠及life-off光刻膠，I/G線IC用光刻膠等產品處于國內領先地位。
上海新陽（300236）
公司主營業務產品為引腳線表面處理化學品、晶圓鍍銅、清洗化學品晶圓劃片刀，公司在半導體傳統封裝領域已經成為國內市場的主流供應商。光刻膠領域，公司擁有193nm(ArF)干法光刻膠研發及產業化項目。ARF193nm光刻膠是芯片制造進入90nm銅互聯制程后最重要的主流光刻膠產品，一直是國內空白。研發此款光刻膠意在填補國內空白，實現芯片制造在關鍵工藝技術和材料技術的自主可控。公司表示，經過近三年的研發，關鍵技術已有重大突破，已從實驗室研發轉向產業研發。
飛凱材料（300398）
公司自主研發用于 PCB 制造上的 UV 固化的阻焊油墨已小批量銷售，用于 TFT 平板顯示屏電路制作用光刻膠尚處于研發階段。
安集科技（688019）
公司產品包括不同系列的化學機械拋光液和光刻膠去除劑，主要應用于集成電路制造和先進封裝領域。公司光刻膠去除劑包括集成電路制造用、晶圓級封裝用、LED/OLED用等系列產品，用于圖形化工藝光刻膠殘留物去除的高端濕化學品，通過將半導體晶片浸入清洗液中或者利用清洗液沖洗半導體晶片，去除半導體晶片上的光刻膠殘留物。公司主要收入來源為化學機械拋光液，但2018年貢獻2.05億元營收（占比為82.78%），較17年的2.08億元有輕微下滑；光刻膠去除劑業務快速發展，16年僅貢獻1942萬元，18年達到4205萬元，兩年實現翻倍。
智盈1元：
