HN金屬掩膜非金屬掩模科研掩膜版激光加工精密定制

HN金屬掩膜非金屬掩模科研掩膜版激光加工精密定制

掩模板可以應用于電子束蒸發，熱蒸發，磁控濺射等設備中，用來制備OPV、OLED、鈣鈦礦太陽能電池，光電探測器，場效應晶體管等各種器件圖形化薄膜和電極。

按照目前的激光加工工藝條件，掩膜版能做到的技術參數如下，供大家參考！，

1.價格掩模板是空隙（挖孔）大小在1mm以上，實體間隔1mm以上（不是孔陣列），誤差在0.1mm，速度快。

2.在0.3mm厚度的304不銹鋼板上，制作的線條（實體）寬0.4mm以上，鏤空（挖孔）0.4mm，誤差是50um左右，速度較快。

3.精度要求高的是在0.1mm厚度的304不銹鋼板上，制作的線條（實體）寬0.15mm以上，鏤空（挖孔）0.15mm，誤差是30um左右，速度較快。非孔陣列的情況下，鏤空（挖孔）可以做到0.1mm。

4.激光加工可以制作線寬0.05mm的叉指電極掩膜版，實體部分誤差30um，空隙部分誤差20um，請合理考慮誤差，并根據誤差情況，設計好自己的圖案結構，圖案結構設計合理，能事半功倍。價格相對較貴。

激光切割一般都會打磨，但是滿足正常的實驗需要沒有問題。有特殊要求的客戶一定要提前說明。

請買家盡量提供CAD圖紙（DWG或DXF格式），如果實在不能提供，請提供可以準確描述掩模板規格的草圖。

由于都是定制的產品，具體價格需要發圖紙確認后，才能正式報價！

華諾梁工竭誠為您服務！