臺灣《聯合報》6月145分鐘前道稱，臺積電于美國當地時間16日舉辦2022年北美技術論壇，首度推出采用納米片晶體管之下一世代先進2納米（N2）制程技術，以及支援N3與N3E制程得獨特TSMC FINFLEX技術，外界推測其將成為全球第1家率先提供2納米制程代工服務得晶圓廠。
臺積電在北美技術論壇揭示以下主要技術焦點：支援N3及N3E得TSMC FINFLEX技術。這項技術平臺，除了涵蓋臺積電即將于今年下半年量產得3納米（N3）技術，并將搭配創新得 TSMC FINFLEX架構。
據了解，TSMC FINFLEX技術，是在開發3納米時，同時讓2納米（N2）獲得重大突破。這項技術提供多樣化得標準元件選擇：3-2鰭結構支援超高效能、2-1 鰭結構支援可靠些功耗效率與晶體管密度、2-2鰭結構則是支援平衡兩者得高效效能。
臺積電表示，TSMC FINFLEX架構，能夠精準協助客戶完成符合其需求得系統單晶片設計，各功能區塊采用允許化得鰭結構，支援所需得效能、功耗與面積，同時整合至相同得芯片上。
臺積電強調，在相同功耗下，2納米得速度增快10~15%，或在相同速度下，功耗降低25~30%，開啟了高效效能得新紀元。
2納米采用納米片晶體管架構，使其效能及功耗效率提升一個世代，協助臺積客戶實現下一代產品得創新。除行動運算得基本版本，2納米技術平臺也涵蓋高效能版本及完備得小芯片（chiplet）整合解決方案，并預定2025年開始量產。
除臺積電外，三星和英特爾也在布局2納米芯片制造。其中，三星芯片代工業務得高管曾在去年10月透露，該公司有望在2025 年下半年使用其2納米制造工藝量產芯片。英特爾則在今年4月透露，預計下一代Intel 18A制程（相當于1.8納米）將提前在2024年下半年投產。
